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VHF-PECVD低温制备微晶硅薄膜的拉曼散射光谱和光发射谱研究

张晓丹 赵 颖 朱 锋 魏长春 吴春亚 高艳涛 侯国付 孙 建 耿新华 熊绍珍

VHF-PECVD低温制备微晶硅薄膜的拉曼散射光谱和光发射谱研究

张晓丹, 赵 颖, 朱 锋, 魏长春, 吴春亚, 高艳涛, 侯国付, 孙 建, 耿新华, 熊绍珍
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出版历程
  • 收稿日期:  2004-02-13
  • 修回日期:  2004-04-26
  • 刊出日期:  2005-01-19

VHF-PECVD低温制备微晶硅薄膜的拉曼散射光谱和光发射谱研究

  • 1. 南开大学光电子所,天津 300071
    基金项目: 

    国家重点基础研究发展规划 (批准号:G2000028202, G2000028203) ,教育部重大项目 (批 准号:02167) 和国家高技术研究发展计划(批准号: 2002AA303261) 资助的课题.

摘要: 采用拉曼散射光谱和PR650光谱光度计对VHF-PECVD制备的微晶硅薄膜进行了结构表征和在线监测研究.结果表明:功率对材料的晶化率(χc)有一定的调节作用,硅烷浓度大,微调作用更明显;SiH*的强度只能在一定的范围内表征材料的沉积速率,功率大相应的速率反而下降;I[Hα*]/I[SiH*]强度比值反映了材料晶化程度,此结果和拉曼散射光谱测试结果显示出一致性;I[Hβ*]/I[Hα*]的强度比表明氢等离子体中的电子温度随功率的增大而逐渐降低.

English Abstract

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