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电子助进化学气相沉积金刚石中发射光谱的蒙特卡罗模拟

王志军 董丽芳 尚 勇

电子助进化学气相沉积金刚石中发射光谱的蒙特卡罗模拟

王志军, 董丽芳, 尚 勇
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出版历程
  • 收稿日期:  2004-05-17
  • 修回日期:  2004-07-06
  • 刊出日期:  2005-03-01

电子助进化学气相沉积金刚石中发射光谱的蒙特卡罗模拟

  • 1. 河北大学物理科学与技术学院,保定 071002
    基金项目: 

    河北省自然科学基金(批准号:502121)资助的课题.

摘要: 采用蒙特卡罗方法,对源料气体为CH4/H2混合气的电子助进化学气相沉积(EACVD)中 的氢原子(H)、碳原子(C)以及CH基团的发射过程进行了模拟.研究了CH4浓度、反应室气压 和衬底偏压等工艺参数对发射光谱及成膜的影响.研究发现,CH基团可能是有利于金刚石薄 膜生长的活性基团,而碳原子不是;偏压的升高可提高电子平均温度及衬底表面附近氢原子 的相对浓度;通过氢原子谱线可测定电子平均温度并找到最佳成膜实验条件.该结果对EACVD 生长金刚石薄膜过程中实时监测电子平均温度,有效控制工艺条件,生长出高质量的金刚石 薄膜具有重要的意义.

English Abstract

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