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磁控溅射ZnO薄膜的成核机制及表面形貌演化动力学研究

刘志文 谷建峰 孙成伟 张庆瑜

磁控溅射ZnO薄膜的成核机制及表面形貌演化动力学研究

刘志文, 谷建峰, 孙成伟, 张庆瑜
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出版历程
  • 收稿日期:  2005-08-25
  • 修回日期:  2005-12-05
  • 刊出日期:  2006-04-20

磁控溅射ZnO薄膜的成核机制及表面形貌演化动力学研究

  • 1. 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,大连 116024
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:50240420656)资助的课题.

摘要: 利用原子力显微镜分析了ZnO薄膜在具有本征氧化层的Si(100)和Si(111)基片上的表面形貌 随沉积时间的演化. 通过对薄膜生长形貌的动力学标度表征,研究了射频反应磁控溅射条件 下,ZnO薄膜的成核过程及生长动力学行为. 研究发现,ZnO在基片表面的成核过程可分为初 期成核阶段、低速率成核阶段和二次成核阶段. 对于Si(100)基片,三个成核阶段的生长指 数分别为β1=1.04,β2=0.25±0.01,β3=0.74;对 于Si(11

English Abstract

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