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Cu掺杂对FexPt1-x薄膜有序化的影响

李宝河 冯 春 杨 涛 翟中海 滕 蛟 于广华 朱逢吾

Cu掺杂对FexPt1-x薄膜有序化的影响

李宝河, 冯 春, 杨 涛, 翟中海, 滕 蛟, 于广华, 朱逢吾
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出版历程
  • 收稿日期:  2005-10-25
  • 修回日期:  2005-11-22
  • 刊出日期:  2006-05-20

Cu掺杂对FexPt1-x薄膜有序化的影响

  • 1. (1)北京科技大学材料物理系,北京 100083; (2)北京科技大学材料物理系,北京 100083;北京工商大学数理部,北京 100037; (3)北京科技大学材料物理系,北京 100083;沈阳建筑大学理学院,沈阳 110168
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:50571007)和北京市教育委员会科技发展计划项目(批准号:KM200610011005)资助的课题.

摘要: 利用磁控溅射制备了薄膜厚度为50nm的系列(FexPt1-x)100-yCuy(x=0.46—0.56,y=0,0.04,0.12) 样品.利用直流共溅射方法精确控制Fe和Pt的原子比.实验结果表明,当x>0.52时,样品中添加Cu不能促进FePt的有序化,但是对于FePt化学原子定比或富Pt的样品,添加Cu可以促进FePt有序化,而且随着Fe含量的减少,需要更多的Cu添加才能实现较低温度下FePt薄膜的有序化.实验结果表明,原子比(FeCu)/Pt达到1.1—1.2的范围时,即可实现较低温度的有序化.

English Abstract

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