搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

投影电子束光刻中电子穿透掩膜的Monte Carlo模拟

肖 沛 张增明 孙 霞 丁泽军

引用本文:
Citation:

投影电子束光刻中电子穿透掩膜的Monte Carlo模拟

肖 沛, 张增明, 孙 霞, 丁泽军

Monte Carlo simulation of electron transmission through masks in projection electron lithography

Xiao Pei, Zhang Zeng-Ming, Sun Xia, Ding Ze-Jun
PDF
导出引用
计量
  • 文章访问数:  7652
  • PDF下载量:  1411
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2006-01-23
  • 修回日期:  2006-04-18
  • 刊出日期:  2006-11-20

/

返回文章
返回