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纳米隧道结的制备和特性研究

刘庆纲 胡小唐 匡登峰 胡留长 郭维廉

纳米隧道结的制备和特性研究

刘庆纲, 胡小唐, 匡登峰, 胡留长, 郭维廉
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出版历程
  • 收稿日期:  2005-04-13
  • 修回日期:  2005-06-06
  • 刊出日期:  2006-01-20

纳米隧道结的制备和特性研究

  • 1. (1)精密测试计量技术及仪器国家重点实验室,天津大学精密仪器与光电子工程学院,天津 300072; (2)南开大学现代光学研究所,天津 300071; (3)天津大学电子信息工程学院,天津 300072
    基金项目: 

    教育部天津大学南开大学科技合作项目基金资助的课题.

摘要: 结合对向靶直流磁控溅射技术、微电子光刻方法和原子力显微镜阳极氧化加工方法制备了实用的纳米钛-钛氧化线-钛隧道结,钛膜的厚度为3.02nm.钛氧化线的宽度为60.5nm,在室温下此隧道结的I-V曲线表现出明显的库仑阻塞效应.

English Abstract

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