搜索

文章查询

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

多晶薄膜表面粗化与生长方式转变

杨吉军 徐可为

多晶薄膜表面粗化与生长方式转变

杨吉军, 徐可为
PDF
导出引用
导出核心图
计量
  • 文章访问数:  3414
  • PDF下载量:  998
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2006-05-30
  • 修回日期:  2006-06-29
  • 刊出日期:  2007-01-26

多晶薄膜表面粗化与生长方式转变

  • 1. 西安交通大学金属材料强度国家重点实验室,西安 710049
    基金项目: 

    国家重点基础研究发展计划(973)项目(批准号:2004CB619302)和国家自然科学基金(批准号:50471035)资助的课题.

摘要: 采用原子力显微镜研究了磁控溅射多晶薄膜表面粗化行为对归一化沉积温度Ts/Tm(Ts是沉积温度,Tm是材料熔点)的依赖性与薄膜生长方式转变行为.随着Ts/Tm增加,薄膜表面粗糙度增加,而表征粗糙度随时间演化特征的生长指数β历经了先减小再增加的过程.β对Ts/Tm的依赖关系反映了薄膜生长方式的转变行为,即薄膜生长依次由随机生长方式向表面扩散驱动生长方式与异常标度行为生长方式转变.在低于体扩散控制薄膜生长的温度时,晶界扩散机理导致多晶薄膜的表面粗化的异常标度行为.

English Abstract

目录

    /

    返回文章
    返回