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外加电场作用下碳纳米管结构稳定性及结构修饰研究

蔺西伟 夏明霞 颜 宁 李红星 宁乃东 谢 中

外加电场作用下碳纳米管结构稳定性及结构修饰研究

蔺西伟, 夏明霞, 颜 宁, 李红星, 宁乃东, 谢 中
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出版历程
  • 收稿日期:  2006-03-31
  • 修回日期:  2006-04-23
  • 刊出日期:  2007-01-08

外加电场作用下碳纳米管结构稳定性及结构修饰研究

  • 1. (1)Intel Corporation M/S RA3-402,2501 NW 229th Av. Hillsboro,Oregon 97124,USA; (2)湖南大学微纳技术研究中心,长沙 410082; (3)湖南大学应用物理系,长沙 410082
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:60571044)资助的课题.

摘要: 利用外加电场的方法,对多壁碳纳米管的结构稳定性进行了研究.结果表明当场强达到30 V/nm时,碳纳米管端部的结构失稳,端部碳原子间的π键被打开,外部原子开始进入到碳纳米管的结构中.利用电子显微镜作为纳米加工仪器,通过外加电场的方法在多壁碳纳米管的端部制备了非晶态碳纳米线,形成碳纳米管-纳米线复合结构.碳纳米管和纳米线结合处的σ键作为绝缘界面,形成了电子输运的势垒.

English Abstract

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