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薄膜体内缺陷对损伤概率的影响

邵建达 范正修 夏志林

薄膜体内缺陷对损伤概率的影响

邵建达, 范正修, 夏志林
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出版历程
  • 收稿日期:  2005-11-30
  • 修回日期:  2006-06-19
  • 刊出日期:  2007-01-20

薄膜体内缺陷对损伤概率的影响

  • 1. (1)中国科学院上海光学精密机械研究所,上海 201800; (2)中国科学院上海光学精密机械研究所,上海 201800;中国科学院研究生院,北京 100080

摘要: 由实验中得到的激光损伤概率与表面杂质密度的关系出发,结合XRD测试和激光损伤测试的结果,得到体缺陷或杂质破坏起主导作用的损伤机理.将激光作用时杂质吸收的热学和力学过程与杂质分布的统计规律结合起来,得到了深埋于薄膜内部的杂质诱导薄膜损伤概率与杂质密度、激光功率密度以及薄膜厚度的关系.该模型认为能诱导薄膜破坏的杂质尺寸范围与杂质填埋深度有关,所以不同深度处能诱导薄膜损伤的杂质密度不一样,理论结果与实验结果符合得很好.该理论模型还可以很好地解释损伤形貌.

English Abstract

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