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分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜折射率及厚度的测试

尾形健一 小池一步 佐佐诚彦 井上正崇 矢野满明 郑 凯 王 琳 李一凡 龚桃荣 简水生 延凤平

分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜折射率及厚度的测试

尾形健一, 小池一步, 佐佐诚彦, 井上正崇, 矢野满明, 郑 凯, 王 琳, 李一凡, 龚桃荣, 简水生, 延凤平
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出版历程
  • 收稿日期:  2006-09-27
  • 修回日期:  2006-11-21
  • 刊出日期:  2007-07-20

分子束外延法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO薄膜折射率及厚度的测试

  • 1. (1)Bio Venture Center,Osaka Institute of Technology; (2)New Material Research Center,Osaka Institute of Technology; (3)New Material Research Center,Osaka Institute of Technology;Bio Venture Center,Osaka Institute of Technology; (4)北京交通大学光波技术研究所,北京 100044; (5)北京交通大学光波技术研究所,北京 100044;New Material Research Center,Osaka Institute of Technology
    基金项目: 

    国家自然科学基金重点项目(批准号:60337010)资助的课题.

摘要: 利用偏振光椭圆率测量仪对分子束外延(MBE)法在Sapphire衬底上生长的Zn1-xMgxO 薄膜的薄膜折射率和厚度进行了测试. 结合ICP法测得的薄膜中的Mg组成量,经数值拟合,导出表征薄膜厚度与薄膜生长条件、薄膜折射率与薄膜中的Mg组成量之间关系的曲线,为MBE法在Sapphire衬底上生长Zn1-xMgxO 薄膜时控制薄膜厚度以及在制作Zn1-xMgxO 薄膜的波导时控制薄膜的折射率提供了理论依据.

English Abstract

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