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脉冲偏压电弧离子镀TiO2薄膜的力学与光学性能

张 敏 林国强 董 闯 闻立时

脉冲偏压电弧离子镀TiO2薄膜的力学与光学性能

张 敏, 林国强, 董 闯, 闻立时
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出版历程
  • 收稿日期:  2007-01-09
  • 修回日期:  2007-05-31
  • 刊出日期:  2007-06-05

脉冲偏压电弧离子镀TiO2薄膜的力学与光学性能

  • 1. 
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号: 50390060)资助的课题.

摘要: 用脉冲偏压电弧离子镀技术在玻璃基片上制备均匀透明的TiO2薄膜.利用X射线衍射仪、原子力显微镜、扫描电子显微镜、紫外-可见透射光谱仪和纳米压痕仪等手段,对不同脉冲负偏压下合成薄膜的相结构、微观结构、表面形貌、力学和光学性能进行表征.结果表明,沉积态薄膜为非晶态.脉冲负偏压对薄膜性能有明显的影响.随偏压的增加,薄膜厚度、硬度和弹性模量均先增大后减小,前者峰值出现在100—200 V负偏压范围,后两者则在250—350V范围.300 V负偏压时薄膜硬度最高,薄膜达到原子级表面光滑度,均方

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