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直流磁控溅射Si和玻璃衬底Fe/Co多层膜的磁性能比较

夏爱林 韩宝善

直流磁控溅射Si和玻璃衬底Fe/Co多层膜的磁性能比较

夏爱林, 韩宝善
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出版历程
  • 收稿日期:  2007-05-15
  • 修回日期:  2007-06-07
  • 刊出日期:  2008-01-15

直流磁控溅射Si和玻璃衬底Fe/Co多层膜的磁性能比较

  • 1. (1)安徽工业大学材料科学与工程学院,马鞍山 243002; (2)中国科学院物理研究所磁学国家重点实验室,北京 100080
    基金项目: 

    安徽省教育厅自然科学研究项目(批准号:KJ2007B217)资助的课题.

摘要: 对直流磁控溅射Si和玻璃衬底[Cot/Fe3t]5(t=2, 3, 4, 5nm)多层膜的磁性能进行了比较.对于t相同但衬底不同的样品,实验发现饱和磁化强度相差很小,但是矫顽力却相差很大.对矫顽力差异的理论分析表明,多层膜的粗糙度和畴壁类型是引起这种差异的主要原因.

English Abstract

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