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Ni掺杂ZnO薄膜的结构与光学特性研究

兰伟 曹文磊 刘雪芹 王印月 唐国梅

Ni掺杂ZnO薄膜的结构与光学特性研究

兰伟, 曹文磊, 刘雪芹, 王印月, 唐国梅
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出版历程
  • 收稿日期:  2008-11-23
  • 修回日期:  2009-04-08
  • 刊出日期:  2009-06-05

Ni掺杂ZnO薄膜的结构与光学特性研究

  • 1. (1)兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室,兰州 730000; (2)西北民族大学计算机科学与信息工程学院,兰州 730030
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:50802037,50872047)和兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室开放课题(批准号:MMM200807)资助的课题.

摘要: 使用射频磁控溅射法成功制备了不同掺杂浓度(0—7at.%)的ZnO:Ni薄膜.X射线衍射的θ-2θ和摇摆曲线扫描结果表明,5at.%Ni掺杂ZnO薄膜具有沿c轴方向最佳的择优取向生长特性,(002)衍射峰向大角度方向移动揭示了Ni杂质被掺入ZnO晶格中占据Zn位.ZnO:Ni薄膜具有较好的可见光透明特性,拟合发现薄膜的光学带隙随Ni掺杂量的增加由3.272 eV线性降低到3.253 eV.未掺杂薄膜在550 nm处呈现出一个绿色发光峰,掺入Ni杂质后薄膜主要表现了以430 nm为中心的蓝色发光,分析认为它们分别源于薄膜中O空位和Zn填隙缺陷发光.

English Abstract

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