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新型的覆纳米粒子薄膜阴极的研究

刘燕文 田宏 韩勇 朱虹 李玉涛 徐振英 孟鸣凤 易红霞 陆玉新 张洪来 刘濮鲲

新型的覆纳米粒子薄膜阴极的研究

刘燕文, 田宏, 韩勇, 朱虹, 李玉涛, 徐振英, 孟鸣凤, 易红霞, 陆玉新, 张洪来, 刘濮鲲
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  • 采用直流磁控溅射的方法制备出Ir金属纳米粒子薄膜.利用扫描电子显微镜分析了纳米粒子的形态和分布以及不同工艺条件对粒子粒径及形貌的影响,表明纳米粒子的大小可通过调节溅射气体压强来控制.在25%孔度的W海绵基体内浸入6∶1∶2铝酸盐发射物质,然后在其表面沉积上厚度为200—500 nm的纳米粒子薄膜层,最后在H2气中1200℃烧结,即制成了新型纳米粒子薄膜阴极.利用阴极发射微观均匀性测试仪对纳米粒子薄膜阴极和传统覆膜阴极的热电子发射的均匀性进行了对比研究.采用飞行时间质谱仪测试了真空本底、纳米粒子薄膜阴极、传统覆膜阴极等各种阴极蒸发物的成分,研究了阴极蒸发速率与阴极温度的关系,比较了不同阴极蒸发速率的大小.研究了Ba-W阴极覆上纳米粒子薄膜后的发射特性.
    • 基金项目: 国家高技术研究发展计划(批准号:2007AA0055)资助的课题.
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出版历程
  • 收稿日期:  2009-03-03
  • 修回日期:  2009-05-05
  • 刊出日期:  2009-06-05

新型的覆纳米粒子薄膜阴极的研究

  • 1. 中国科学院电子学研究所,北京 100190
    基金项目: 

    国家高技术研究发展计划(批准号:2007AA0055)资助的课题.

摘要: 采用直流磁控溅射的方法制备出Ir金属纳米粒子薄膜.利用扫描电子显微镜分析了纳米粒子的形态和分布以及不同工艺条件对粒子粒径及形貌的影响,表明纳米粒子的大小可通过调节溅射气体压强来控制.在25%孔度的W海绵基体内浸入6∶1∶2铝酸盐发射物质,然后在其表面沉积上厚度为200—500 nm的纳米粒子薄膜层,最后在H2气中1200℃烧结,即制成了新型纳米粒子薄膜阴极.利用阴极发射微观均匀性测试仪对纳米粒子薄膜阴极和传统覆膜阴极的热电子发射的均匀性进行了对比研究.采用飞行时间质谱仪测试了真空本底、纳米粒子薄膜阴极、传统覆膜阴极等各种阴极蒸发物的成分,研究了阴极蒸发速率与阴极温度的关系,比较了不同阴极蒸发速率的大小.研究了Ba-W阴极覆上纳米粒子薄膜后的发射特性.

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