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大气压等离子体辅助多晶硅薄膜化学气相沉积参数诊断

刘莉莹 张家良 郭卿超 王德真

大气压等离子体辅助多晶硅薄膜化学气相沉积参数诊断

刘莉莹, 张家良, 郭卿超, 王德真
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  • 本文采用发射光谱法诊断了大气压下Ar气、SiCl4及H2气混合气体(Ar/SiCl4/H2)射频放电等离子体射流特性.利用Si原子谱线强度计算了电子激发温度并以此估算了Si原子数密度,研究了射频功率及气体流量对电子激发温度和Si原子数密度以及SiCl4解离率的作用.
    • 基金项目: 国家自然科学基金(批准号:10775026,10675028)资助的课题.
    [1]

    [1]Guo Z Q, Shen H, Liu Z Y, Wen L S 2006 Mater. Rev. 20 41(in Chinese) [郭志球、沈辉、刘正义、闻立时 2006 材料导报 20 41]

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    [2]Surek T 2005 J. Cryst. Growth 275 292

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    [4]Haijun Jia, Hajime Shirai 2006 Thin Solid Films 506-507 27

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    [5]Focsa A, Gordon I, Auger J.M, Slaoui A, Beaucarne G, Poortmans J, Maurice C 2008 Renew. Energ. 33 267

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    [6]Okada T, Higashi S, Kaku H, Koba N, Murakami H, Miyazaki S 2007 Thin Solid Films 515 4897

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    [7]Kakiuchi H, Matsumoto M,Ebata Y, Ohmi H, Yasutake K, Yoshii K, Mori Y 2005 J. Non-Cryst. Solids 351 741

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    [10]

    ]Liu L Y, Zhang J L, Wang D Z 2009 Plasma Sci. Technol. 11 69

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    ]Schütze A, Jeong J Y, Babayan S E, Park J, Selwyn G S, HicksR F 1998 IEEE Trans. Plasma Sci. 26 1685

    [12]

    ]Cooper J 1964 Plasma Spectroscopy (Plasma Physics Group, Imperial College, London)43

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    ]Sansonetti J E, Martin W C Handbook of Basic Atomic Spectrosco-pic Data,http://physics.nist.gov/PhysRefData/Handbook

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    ]Wang X C, Wang N H, Ding Z F 2007 Plasma Sci. Technol. 9 570

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    ]Tu X, Lu S Y, Yan J H, Ma Z Y, Pan X C, Cen K F, Cheron Bruno 2006 Spectrosc. Spect. Ana. 26 1785 (in Chinese) [屠昕、陆胜勇、严建华、马增益、潘新潮、岑可法 2006 光谱学与光谱分析 26 1785]

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    ]Benson S W 1965 J. Chem. Educ. 42 502

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    ]Martin W C,Zalubas R 1983 J. Phys. Chem. Ref. Data 12 323

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    ]Radziemski L J, Kaufman V J 1969 Opt. Soc. Am. 59 424

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    ]Velchev I, Hogervorst W, Ubachs W 1999 Physica B 32 L511

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    ]Johnson W R, Soff G 1985 At. Data Nucl. Data Tables 33 405

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    [2]Surek T 2005 J. Cryst. Growth 275 292

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    [20] 陈维, 黄骏, 李辉, 吕国华, 王兴权, 张国平, 王鹏业, 杨思泽. 氦-氧等离子体针灭活肺癌A549细胞. 物理学报, 2012, 61(18): 185203. doi: 10.7498/aps.61.185203
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出版历程
  • 收稿日期:  2009-06-13
  • 修回日期:  2009-08-25
  • 刊出日期:  2010-04-15

大气压等离子体辅助多晶硅薄膜化学气相沉积参数诊断

  • 1. 大连理工大学物理与光电工程学院,大连 116023
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:10775026,10675028)资助的课题.

摘要: 本文采用发射光谱法诊断了大气压下Ar气、SiCl4及H2气混合气体(Ar/SiCl4/H2)射频放电等离子体射流特性.利用Si原子谱线强度计算了电子激发温度并以此估算了Si原子数密度,研究了射频功率及气体流量对电子激发温度和Si原子数密度以及SiCl4解离率的作用.

English Abstract

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