搜索

文章查询

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

射频反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜摩擦特性研究

王培君 江美福 杜记龙 戴永丰

射频反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜摩擦特性研究

王培君, 江美福, 杜记龙, 戴永丰
PDF
导出引用
导出核心图
计量
  • 文章访问数:  3488
  • PDF下载量:  739
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2009-12-17
  • 修回日期:  2010-05-06
  • 刊出日期:  2010-12-15

射频反应磁控溅射法制备的氟化类金刚石薄膜摩擦特性研究

  • 1. 苏州大学物理系,苏州 215006

摘要: 以高纯石墨做靶,CHF3和Ar气为源气体,采用射频反应磁控溅射法在不同流量比条件下制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜.利用原子力显微镜、纳米压痕仪、拉曼光谱和红外光谱、摩擦磨损测试仪对薄膜的表面形貌、硬度、键结构以及摩擦性能做了具体分析.表面形貌测试结果表明,制备的薄膜整体均匀致密,表现出了良好的减摩性能.当CHF3与Ar气流量比r为1 ∶6时,所得薄膜的摩擦系数减小至0.42,而纳米压痕结果显示,此时薄膜的硬度也最高.拉曼和红外光谱显示,随着r的增加,薄膜中的F浓度呈上升趋势,薄膜中的芳香环比例减小.研究表明,F原子的键入方式是影响F-DLC薄膜摩擦系数的一个重要因素,CF2反对称伸缩振动强度的减弱和C C中适量碳氢氟键的形成都能导致薄膜具有相对较低的摩擦系数.

English Abstract

参考文献 (18)

目录

    /

    返回文章
    返回