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反应气压对直流磁控反应溅射制备的氧化银薄膜的结构和光学性质的影响

张增院 郜小勇 冯红亮 马姣民 卢景霄

反应气压对直流磁控反应溅射制备的氧化银薄膜的结构和光学性质的影响

张增院, 郜小勇, 冯红亮, 马姣民, 卢景霄
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出版历程
  • 收稿日期:  2010-03-13
  • 修回日期:  2010-05-12
  • 刊出日期:  2011-01-15

反应气压对直流磁控反应溅射制备的氧化银薄膜的结构和光学性质的影响

  • 1. 郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室,郑州 450052
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:60807001)和河南省教育厅自然科学研究计划项目(批准号:2010A140017)资助的课题.

摘要: 利用直流磁控反应溅射技术,通过调节反应气压(RP),在250 ℃衬底温度下制备了一系列氧化银 (AgxO) 薄膜,并利用X射线衍射谱、能量色散谱和分光光度计重点研究了RP对AgxO薄膜的结构和光学性质的影响. 研究结果表明,随着RP从0.5 Pa升高到3.5 Pa,薄膜明显呈现了从两相(AgO+Ag2O)到单相(Ag2O)结构再到两相(Ag2O+AgO)结构的演变. 特

English Abstract

参考文献 (22)

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