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高能氮离子轰击对四面体非晶碳膜的表面改性和摩擦系数影响的研究

韩亮 陈仙 杨立 王炎武 王晓艳 赵玉清

高能氮离子轰击对四面体非晶碳膜的表面改性和摩擦系数影响的研究

韩亮, 陈仙, 杨立, 王炎武, 王晓艳, 赵玉清
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出版历程
  • 收稿日期:  2010-08-18
  • 修回日期:  2010-09-16
  • 刊出日期:  2011-03-05

高能氮离子轰击对四面体非晶碳膜的表面改性和摩擦系数影响的研究

  • 1. (1)西安交通大学电子与信息工程学院电子物理与器件教育部重点实验室, 西安 710049; (2)西安交通大学电子与信息工程学院电子物理与器件教育部重点实验室, 西安 710049;西安电子科技大学技术物理学院, 西安 710071
    基金项目: 

    陕西省"13115"科技创新工程重大科技专项(批准号:2009ZDKG-29)资助的课题.

摘要: 利用过滤阴极真空电弧技术制备了sp3键含量不小于80%的四面体非晶碳(ta-C)膜.利用冷阴极潘宁离子源产生不同能量的氮离子对制备的ta-C薄膜进行轰击,通过X射线光电子能谱和原子力显微镜对薄膜表面结构与形貌进行分析研究.研究表明,随着氮离子的轰击能量的增大,薄膜中的CN键结构略有增大,形成了轻N掺杂;同时,在薄膜表层发生了sp3键结构向sp2键结构的转化;薄膜的表面粗糙度在经过氮离子轰击后从0.2 nm减小至0.18 nm,然后随着轰击能

English Abstract

参考文献 (16)

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