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熔石英后表面坑点型划痕对光场调制的近场模拟

章春来 王治国 向霞 刘春明 李莉 袁晓东 贺少勃 祖小涛

熔石英后表面坑点型划痕对光场调制的近场模拟

章春来, 王治国, 向霞, 刘春明, 李莉, 袁晓东, 贺少勃, 祖小涛
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出版历程
  • 收稿日期:  2011-08-04
  • 修回日期:  2012-06-05
  • 刊出日期:  2012-06-05

熔石英后表面坑点型划痕对光场调制的近场模拟

  • 1. 电子科技大学物理电子学院, 成都 610054;
  • 2. 中国工程物理研究院激光聚变研究中心, 绵阳 621900
    基金项目: 

    国家自然科学基金青年科学基金 (批准号: 10904008)、国家自然科学基金委员会-中国工程物理研究院联合基金 (批准号: 11076008)和 中央高等学校基本科研基金 (批准号: ZYGX2009X007, ZYGX2010J045, ZYGX2011J043) 资助的课题.

摘要: 建立了坑点型划痕的旋转抛物面模型, 用三维时域有限差分方法研究了熔石英后表面坑点型划痕随深度、宽度、间距以及酸蚀量变化对波长 =355 nm入射激光的调制.研究表明, 这类划痕调制最强区位于相邻两坑点的连接区, 且越靠近表面调制越强.当其宽深比为2.03.5、坑点间距约为坑点宽度的1/2时, 可获得最大光场调制, 最大光强增强因子(LIEF)为11.53; 当坑点间距大于坑点宽度时, 其调制大为减弱, 相当于单坑的场调制.对宽为60 ( =/12), 深和间距均为30的坑点型划痕进行刻蚀模拟, 刻蚀过程中最大LIEF为11.0, 当间距小于300 nm时, 相邻坑点由于衍射形成场贯通.

English Abstract

参考文献 (13)

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