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非晶氧化钛薄膜形成过程中钛离子能量对表面结构影响的机理

陈仙 王炎武 王晓艳 安书董 王小波 赵玉清

非晶氧化钛薄膜形成过程中钛离子能量对表面结构影响的机理

陈仙, 王炎武, 王晓艳, 安书董, 王小波, 赵玉清
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出版历程
  • 收稿日期:  2014-04-28
  • 修回日期:  2014-08-13
  • 刊出日期:  2014-12-20

非晶氧化钛薄膜形成过程中钛离子能量对表面结构影响的机理

  • 1. 西安交通大学电子与信息工程学院, 电子物理与器件教育部重点实验室, 西安 710049

摘要: 研究了非晶氧化钛薄膜沉积过程中入射钛离子能量对表面结构形成机理以及薄膜特性的影响. 模拟结果表明, 通过提高入射钛离子能量, 可以有效降低成膜表面粗糙度, 从而减小薄膜表面的光学散射损耗. 研究发现, 当入射离子能量提高后, 薄膜生长模式从“岛”状生长过渡到了“层”状生长, 且离子入射点附近的平均扩散系数也有显著增加, 这有利于形成更加平整的高质量薄膜表面.

English Abstract

参考文献 (19)

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