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沉积态铀薄膜表面氧化的X射线光电子能谱

杨蒙生 易泰民 郑凤成 唐永建 张林 杜凯 李宁 赵利平 柯博 邢丕峰

沉积态铀薄膜表面氧化的X射线光电子能谱

杨蒙生, 易泰民, 郑凤成, 唐永建, 张林, 杜凯, 李宁, 赵利平, 柯博, 邢丕峰
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  • 含铀(U)薄膜在激光惯性约束聚变的实验研究中有重要的用途.研究其在不同气氛下的氧化性能可以为微靶制备、储存及物理实验提供关键的实验数据.通过超高真空磁控溅射技术制备了纯U薄膜及金-铀(Au-U)复合平面膜,将其在大气、高纯氩(Ar)气及超高真空度环境中暴露一段时间后,利用X射线光电子能谱仪结合Ar+束深度剖析技术考察U层中氧(O)元素分布及价态,分析氧化产物及机理.结果显示,初始状态的U薄膜中未检测到O的存在.Au-U复合薄膜中的微观缺陷减弱了Au防护层的屏蔽效果,使其在3周左右时间内严重氧化,产物为U表面致密的氧化膜及缺陷周围的点状腐蚀物,主要成分均为二氧化铀(UO2).在高纯Ar气中纯U薄膜仅暴露6 h后表面即被严重氧化,生成厚度不均匀的UO2.在超高真空度环境下保存12 h后,纯U薄膜表面也发生明显氧化,生成厚度不足1 nm的UO2.Ar+束对铀氧化物的刻蚀会因择优溅射效应而使UO2被还原成非化学计量的UO2-x,但这种效应受O含量的影响.
      通信作者: 邢丕峰, fascist000@aliyun.com
    • 基金项目: 国家自然科学基金(批准号:51702303)资助的课题.
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出版历程
  • 收稿日期:  2017-09-17
  • 修回日期:  2017-10-15
  • 刊出日期:  2018-01-20

沉积态铀薄膜表面氧化的X射线光电子能谱

  • 1. 中国工程物理研究院, 激光聚变研究中心, 绵阳 621900
  • 通信作者: 邢丕峰, fascist000@aliyun.com
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:51702303)资助的课题.

摘要: 含铀(U)薄膜在激光惯性约束聚变的实验研究中有重要的用途.研究其在不同气氛下的氧化性能可以为微靶制备、储存及物理实验提供关键的实验数据.通过超高真空磁控溅射技术制备了纯U薄膜及金-铀(Au-U)复合平面膜,将其在大气、高纯氩(Ar)气及超高真空度环境中暴露一段时间后,利用X射线光电子能谱仪结合Ar+束深度剖析技术考察U层中氧(O)元素分布及价态,分析氧化产物及机理.结果显示,初始状态的U薄膜中未检测到O的存在.Au-U复合薄膜中的微观缺陷减弱了Au防护层的屏蔽效果,使其在3周左右时间内严重氧化,产物为U表面致密的氧化膜及缺陷周围的点状腐蚀物,主要成分均为二氧化铀(UO2).在高纯Ar气中纯U薄膜仅暴露6 h后表面即被严重氧化,生成厚度不均匀的UO2.在超高真空度环境下保存12 h后,纯U薄膜表面也发生明显氧化,生成厚度不足1 nm的UO2.Ar+束对铀氧化物的刻蚀会因择优溅射效应而使UO2被还原成非化学计量的UO2-x,但这种效应受O含量的影响.

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