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高阻隔碳氢膜的制备及性能研究

葛袁静 张越飞 张广秋 张谷令 王久丽 刘元福 顾伟超 冯文然 刘赤子 杨思泽 陈光良

高阻隔碳氢膜的制备及性能研究

葛袁静, 张越飞, 张广秋, 张谷令, 王久丽, 刘元福, 顾伟超, 冯文然, 刘赤子, 杨思泽, 陈光良
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出版历程
  • 收稿日期:  2004-04-27
  • 修回日期:  2004-06-22
  • 刊出日期:  2005-03-01

高阻隔碳氢膜的制备及性能研究

  • 1. (1)等离子体物理及材料实验室,北京印刷学院,北京 102600; (2)中国科学院物理研究所,北京 100080; (3)中国科学院物理研究所,北京 100080;等离子体物理及材料实验室,北京印刷学院,北京 102600

摘要: 利用射频等离子体化学气象沉积法(r.f.PECVD),在12μm厚的聚对苯二甲酸乙二醇酯 (PET)上制备了碳氢膜. 用原子力显微镜(AFM),x射线光电子能谱(XPS),激光拉曼光谱,傅里叶红外光谱等仪器,对碳氢膜的表面形貌和内部结构特性进行了较详细研究. 镀碳氢膜PET的阻隔性能在标准透水蒸气测试仪上进行检测. 实验结果证明:沉积工艺参数对碳氢膜的生长速率及结构性能有重要影响;在PET上沉积的是纳米碳氢膜,该膜主要由sp2和sp3杂化的碳氢化合物组成;当PET上碳氢膜厚度为900nm时,阻水蒸气性能可提高7倍.

English Abstract

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