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多层膜[Co85Cr15/Pt]20的磁性、垂直磁记录特性和微结构的关系

杨 涛 翟中海 朱逢吾 李宝河 黄 阀

多层膜[Co85Cr15/Pt]20的磁性、垂直磁记录特性和微结构的关系

杨 涛, 翟中海, 朱逢吾, 李宝河, 黄 阀
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出版历程
  • 收稿日期:  2004-09-21
  • 修回日期:  2004-11-01
  • 刊出日期:  2005-04-19

多层膜[Co85Cr15/Pt]20的磁性、垂直磁记录特性和微结构的关系

  • 1. (1)北京科技大学材料物理与化学系,北京 100083; (2)北京科技大学材料物理与化学系,北京 100083;北京工商大学数理部,北京 100037; (3)北京科技大学材料物理与化学系,北京 100083;金日成综合大学物理系,朝鲜平壤
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:50301002)和北京市科技新星计划(批准号:H020821290120 )资助的课题.

摘要: 采用磁控溅射法制备了性能优良的以Pt为缓冲层的[Co8585Cr1515/Pt]2020 多层膜,研究了溅射气压对[Co8585Cr1515/Pt]2020多层膜微结构和磁性的 影响.研究结果表明,Ar溅射气压对[Co8585Cr1515/Pt]2020多层膜的微结构 、垂直磁各向异性和矫顽力有重要的影响

English Abstract

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