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周期性多层膜合金化制取的TiNi形状记忆薄膜的室温微结构特征

王天民 魏向军 徐 清 贾全杰 王焕华 冯松林

周期性多层膜合金化制取的TiNi形状记忆薄膜的室温微结构特征

王天民, 魏向军, 徐 清, 贾全杰, 王焕华, 冯松林
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出版历程
  • 收稿日期:  2005-08-12
  • 修回日期:  2005-09-20
  • 刊出日期:  2006-03-20

周期性多层膜合金化制取的TiNi形状记忆薄膜的室温微结构特征

  • 1. (1)兰州大学物理科学与技术学院,兰州 730000; (2)兰州大学物理科学与技术学院,兰州 730000;中国科学院高能物理研究所,北京 100049; (3)中国科学院高能物理研究所,北京 100049
    基金项目: 

    高能所科技创新项目(批准号:U-513-1)资助的课题.

摘要: 用掠入射X射线衍射及X射线反射对磁控溅射制取的等原子比Ni/Ti周期性多层膜晶化热处理 后的TiNi形状记忆薄膜室温微结构进行了研究.TiNi形状记忆薄膜在深度方向的相分布和元 素分布是不均匀的,都是一种多层结构.室温下其微结构特征为最外层是Ti氧化膜,再下层 是Ti3Ni4,B19’马氏体相和少量的B2奥氏体相的三相混合物,靠近 基体为主要相成分马氏体,最后是Ni和Si界面反应层.X射线反射率的拟和结果显示薄膜微结 构的分析是合理的.薄膜中相深度分布的不均匀性主要是动力学因素决定的.

English Abstract

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