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超薄类金刚石膜生长和结构特性的分子动力学模拟

马天宝 胡元中 王 慧

超薄类金刚石膜生长和结构特性的分子动力学模拟

马天宝, 胡元中, 王 慧
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出版历程
  • 收稿日期:  2005-12-05
  • 修回日期:  2005-12-29
  • 刊出日期:  2006-03-05

超薄类金刚石膜生长和结构特性的分子动力学模拟

  • 1. 清华大学摩擦学国家重点实验室,北京 100084
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:50390060)和国家重点基础研究发展规划基金(批准号:2003CB716201)资助的课题.

摘要: 利用分子动力学模拟方法研究了2—3nm厚的类金刚石(DLC)薄膜在金刚石基体(100)表面上的生长过程. 分析了用来表征沉积后无定型碳膜质量的重要结构特性,如sp3杂化比例、薄膜密度、径向分布函数等,计算结果和现有的实验结果基本一致. 不同入射原子能量对结构特性进而对薄膜性能有重要影响,入射原子能量在20—60eV时,薄膜可以获得最优性能. 载能原子入射是生长均匀、连续、致密固体薄膜的前提,稳定的中间区域对于保证薄膜优良的力学性质是必需的.

English Abstract

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