搜索

文章查询

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

电子束蒸发氧化锆薄膜的粗糙度和光散射特性

邵建达 范正修 易 葵 侯海虹 孙喜莲 申雁鸣

电子束蒸发氧化锆薄膜的粗糙度和光散射特性

邵建达, 范正修, 易 葵, 侯海虹, 孙喜莲, 申雁鸣
PDF
导出引用
导出核心图
计量
  • 文章访问数:  3422
  • PDF下载量:  1688
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2005-07-20
  • 修回日期:  2005-12-12
  • 刊出日期:  2006-06-20

电子束蒸发氧化锆薄膜的粗糙度和光散射特性

  • 1. (1)中国科学院上海光学精密机械研究所,上海 201800; (2)中国科学院上海光学精密机械研究所,上海 201800;中国科学院研究生院,北京 100039

摘要: 利用电子束蒸发工艺,以Ag层为衬底,沉积了中心波长为632.8nm的氧化锆(ZrO2)薄膜,膜层厚度在80—480nm范围内变化.研究了不同厚度样品的粗糙度变化规律和表面散射特性.结果发现,随着膜层厚度的逐渐增加,其表面均方根(RMS)粗糙度和总积分散射(TIS)均呈现出先减小后增大的趋势.利用非相关表面粗糙度的散射模型对样品的TIS特性进行了理论计算,所得结果与测量结果相一致.

English Abstract

目录

    /

    返回文章
    返回