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Au/SiO2纳米多层薄膜的制备及其性质表征

张波萍 焦力实 张海龙 张 芸 李向阳

Au/SiO2纳米多层薄膜的制备及其性质表征

张波萍, 焦力实, 张海龙, 张 芸, 李向阳
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出版历程
  • 收稿日期:  2005-12-16
  • 修回日期:  2006-01-16
  • 刊出日期:  2006-07-20

Au/SiO2纳米多层薄膜的制备及其性质表征

  • 1. (1)北京科技大学材料科学与工程学院,北京 100083; (2)北京科技大学材料科学与工程学院,北京 100083;大连理工大学环境与生命学院,大连 116024; (3)钢铁研究总院功能材料研究所,北京 100081
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:50572008), 教育部新世纪优秀人才支持计划(批准号:NCET-04-0105)和辽宁省科学技术基金(批准号:20042157)资助的课题.

摘要: 利用多靶磁控溅射技术制备了Au/SiO2纳米颗粒分散氧化物多层复合薄膜.研究了在保持Au单层颗粒膜沉积时间一定时薄膜厚度一定、变化SiO2的沉积时间及SiO2的沉积时间一定而改变薄膜厚度时,多层薄膜在薄膜厚度方向的微观结构对吸收光谱的影响.研究结果表明:具有纳米层状结构的Au/SiO2多层薄膜在560 nm波长附近有明显的表面等离子共振吸收峰,吸收峰的强度随Au颗粒的浓度增加而增强,在Au颗粒浓度相同的情况下,复合薄膜

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