搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

InN薄膜的氧化特性研究

谢自力 张 荣 修向前 刘 斌 朱顺明 赵 红 濮 林 韩 平 江若琏 施 毅 郑有炓

InN薄膜的氧化特性研究

谢自力, 张 荣, 修向前, 刘 斌, 朱顺明, 赵 红, 濮 林, 韩 平, 江若琏, 施 毅, 郑有炓
PDF
导出引用
计量
  • 文章访问数:  3966
  • PDF下载量:  1349
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2006-04-06
  • 修回日期:  2006-07-25
  • 刊出日期:  2007-01-05

InN薄膜的氧化特性研究

  • 1. 南京大学物理系,江苏省光电功能材料重点实验室,南京 210093
    基金项目: 

    国家重点基础研究发展规划(973)(批准号:2006CB6049),国家自然科学基金(批准号:60390072,60476030,60421003,60676057),教育部重大项目(批准号:10416),高等学校博士学科点专项科研基金(批准号:20050284004)和江苏省自然科学基金(批准号:BK2005210,BK2006126)资助的课题.

摘要: 研究了InN薄膜在不同氧气氛中的氧化特性. 研究表明,在400 ℃以下,InN薄膜很难被氧化,而金属In很容易被氧化. 因此富In的InN薄膜的氧化在400 ℃以下主要是金属In的氧化,在400 ℃以上为金属In和InN的同时被氧化. 在400 ℃以上的氧化过程中,InN的表观氧化速率非常慢,这可能和InN的高温分解有关. InN的湿氧和干氧氧化结果说明湿氧氧化速率比干氧快.

English Abstract

目录

    /

    返回文章
    返回