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AlN/Si3N4纳米多层膜的外延生长与力学性能

喻利花 董松涛 董师润 许俊华

AlN/Si3N4纳米多层膜的外延生长与力学性能

喻利花, 董松涛, 董师润, 许俊华
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出版历程
  • 收稿日期:  2007-12-07
  • 修回日期:  2008-04-17
  • 刊出日期:  2008-08-20

AlN/Si3N4纳米多层膜的外延生长与力学性能

  • 1. 江苏科技大学材料科学与工程学院,江苏省先进焊接技术重点实验室,镇江 212003
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:50574044)资助的课题.

摘要: 采用射频磁控溅射方法制备单层AlN, Si3N4薄膜和不同调制周期的AlN/Si3N4纳米多层膜.采用X射线衍射仪、高分辨透射电子显微镜和纳米压痕仪对薄膜进行表征.结果发现,多层膜中Si3N4层的晶体结构和多层膜的硬度依赖于Si3N4层的厚度.当AlN层厚度为4.0nm、 Si3N4层厚度

English Abstract

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