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强磁场对真空蒸镀制取Te薄膜的影响

赵安昆 任忠鸣 任树洋 操光辉 任维丽

强磁场对真空蒸镀制取Te薄膜的影响

赵安昆, 任忠鸣, 任树洋, 操光辉, 任维丽
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出版历程
  • 收稿日期:  2008-12-02
  • 修回日期:  2009-01-06
  • 刊出日期:  2009-10-20

强磁场对真空蒸镀制取Te薄膜的影响

  • 1. 上海大学材料科学与工程学院,上海 200072
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号: 50671060)资助的课题.

摘要: 采用强磁场下物理气相沉积方法,在单晶硅、玻璃板和聚乙烯(PET)基片上真空蒸发制取Te膜.结果显示在三种不同的基片上生长Te膜时,4 T强磁场能够加快Te膜的形核长大,增大Te膜的颗粒尺度,使晶粒〈011〉方向取向性增强.

English Abstract

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