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非线性曝光对三维全息光子晶体禁带特性的影响

任晓斌 翟天瑞 任芝 林晶 周静 刘大禾

非线性曝光对三维全息光子晶体禁带特性的影响

任晓斌, 翟天瑞, 任芝, 林晶, 周静, 刘大禾
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出版历程
  • 收稿日期:  2008-01-21
  • 修回日期:  2008-03-31
  • 刊出日期:  2009-05-20

非线性曝光对三维全息光子晶体禁带特性的影响

  • 1. 应用光学北京市重点实验室,北京师范大学物理系,北京 100875
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:60277014和60677006)资助的课题.

摘要: 从理论和实验两方面研究了非线性曝光对全息方法制作光子晶体的影响.使用低折射率材料(n=152)制作了金刚石结构光子晶体,通过控制曝光量使记录介质工作在非线性曝光区域,发现光子禁带的特性得到了明显的改善.并由此提出了用低折射率材料实现全空间禁带的设想.

English Abstract

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