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溅射制备非晶氮化镓薄膜的光学性能

贾璐 谢二庆 潘孝军 张振兴

溅射制备非晶氮化镓薄膜的光学性能

贾璐, 谢二庆, 潘孝军, 张振兴
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出版历程
  • 收稿日期:  2008-07-31
  • 修回日期:  2008-11-06
  • 刊出日期:  2009-05-20

溅射制备非晶氮化镓薄膜的光学性能

  • 1. 兰州大学物理科学与技术学院,兰州 730000
    基金项目: 

    新世纪优秀人才支持计划(批准号:NCET-04-0975)资助的课题.

摘要: 采用直流磁控溅射方法在不同的氩气-氮气(Ar-N2)气氛中制备了非晶氮化镓(a-GaN)薄膜. X射线衍射分析(XRD)和拉曼光谱(Raman)表明薄膜具有非晶结构. 通过椭偏光谱(SE)得到薄膜的折射率和厚度都随着氩气分量的增多而增大. 紫外—可见光谱(UV-Vis)的测量得到,当氩气分量R,即Ar/(Ar+N2),为0%时,薄膜的光学带隙为3.90eV,比晶体GaN (c-GaN) 的较大,这主要是由非晶结构中原子无序性造成的;而当R

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