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基片对交替溅射制备的MnZn铁氧体薄膜结构和磁性的影响

刘曦 王兰喜 曹江伟 刘小晰 魏福林 张弘

基片对交替溅射制备的MnZn铁氧体薄膜结构和磁性的影响

刘曦, 王兰喜, 曹江伟, 刘小晰, 魏福林, 张弘
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出版历程
  • 收稿日期:  2008-07-28
  • 修回日期:  2008-12-08
  • 刊出日期:  2009-07-20

基片对交替溅射制备的MnZn铁氧体薄膜结构和磁性的影响

  • 1. (1)兰州大学磁性材料研究所,兰州 730000; (2)兰州大学电子材料研究所,兰州 730000
    基金项目: 

    国家自然科学基金(项目号:60371016)资助的课题.

摘要: 使用成分分别为MnFe2O4和ZnFe2O4的靶,使用射频溅射交替沉积制备了成分不同的Mn1-xZnxFe2O4薄膜,沉积薄膜所用基片分别为单晶硅Si(100),氧化的单晶硅SiO2/Si(100), ZnFe2O4为衬底的单晶硅ZnFe<

English Abstract

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