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占空比对微球a-C:H薄膜制备的影响

张宝玲 何智兵 吴卫东 刘兴华 杨向东

占空比对微球a-C:H薄膜制备的影响

张宝玲, 何智兵, 吴卫东, 刘兴华, 杨向东
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出版历程
  • 收稿日期:  2008-09-04
  • 修回日期:  2008-12-13
  • 刊出日期:  2009-09-20

占空比对微球a-C:H薄膜制备的影响

  • 1. (1)四川大学物理科学与技术学院,成都 610065;中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳 621900; (2)中国工程物理研究院激光聚变研究中心,绵阳 621900
    基金项目: 

    国家高技术研究发展计划惯性约束聚变领域资助的课题.

摘要: 采用低压等离子体化学气相沉积方法(LPPCVD),以反式二丁烯(T2B)和氢气(H2)为工作气体,利用间歇跳动模式在微球表面制备30 μm厚a-C:H涂层.利用原子力显微镜(AFM)和X射线照相技术对涂层表面形貌及壁厚均匀性进行表征,结果表明:随占空比减小,制备出的微球a-C:H薄膜表面粗糙度呈下降趋势,而壁厚均匀性随占空比的减小变化不明显;当占空比为1/5时,在直径为(280±50) μm 的聚乙烯醇-聚苯乙烯(PVA-PS)双层球表面制备出30 μm厚的a-C:H涂层,表面均方根粗糙度(RMS)低于30 nm;占空比为1/7时,不能维持微球的稳定跳动.

English Abstract

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