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高电流密度圆柱状电子光学系统设计

孙富宇 吴振华 张开春

高电流密度圆柱状电子光学系统设计

孙富宇, 吴振华, 张开春
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出版历程
  • 收稿日期:  2009-05-03
  • 修回日期:  2009-07-07
  • 刊出日期:  2010-03-15

高电流密度圆柱状电子光学系统设计

  • 1. 电子科技大学物理电子学院太赫兹研究中心,成都 610054
    基金项目: 

    国家重大基础研究发展计划(973)项目(批准号:2007CB310401)资助的课题.

摘要: 设计了高电流密度圆柱状电子枪,并分析了枪体参数对电子注品质的影响;运用径向力平衡理论计算了聚焦磁场.三维模拟软件CST PARTICLE STUDIO模拟显示,在枪体电极和空间电荷形成的静电场,以及聚焦磁场作用下,电子呈角向先变速后匀速螺旋状运动,其旋转半径始终与出射阴极面时的半径相同,从而在枪区和互作用通道内维持了注包络水平.模拟结果与设计理论相符.注平均电流密度达到244 A/cm2,层流性良好,填充因子767%,流通率100%.

English Abstract

参考文献 (12)

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