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磁过滤器电流对非晶碳薄膜摩擦学特性影响的研究

韩亮 杨立 杨拉毛草 王炎武 赵玉清

磁过滤器电流对非晶碳薄膜摩擦学特性影响的研究

韩亮, 杨立, 杨拉毛草, 王炎武, 赵玉清
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出版历程
  • 收稿日期:  2009-10-17
  • 修回日期:  2010-07-13
  • 刊出日期:  2011-02-05

磁过滤器电流对非晶碳薄膜摩擦学特性影响的研究

  • 1. 西安交通大学电子与信息工程学院,西安 710049
    基金项目: 

    陕西省"13115"科技创新工程重大科技专项项目计划(批准号:2009ZDKG-29)资助的课题.

摘要: 研究了过滤阴极真空电弧技术中,不同的磁过滤器电流下(5—13 A),制备的四面体非晶碳(ta-C)薄膜对摩擦学特性的影响.通过对薄膜厚度,薄膜结构以及薄膜表面粗糙度随磁过滤电流的变化结果进行了测试,结果表明,随着磁过滤器电流的增大,薄膜的sp3键含量逐渐减少,表面粗糙度从0.13增大到0.38.磁过滤器电流在5 A时,薄膜的摩擦系数最小约为0.08,当电流增大到7 A时,摩擦系数显著增大,磁过滤器电流从7 A增大到13 A时,薄膜的摩擦系数再次减小约为0.1.

English Abstract

参考文献 (20)

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