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电阻热蒸发镀膜与电子束蒸发镀膜对纳米球刻蚀方法制备二维银纳米阵列结构的影响

罗银燕 朱贤方

电阻热蒸发镀膜与电子束蒸发镀膜对纳米球刻蚀方法制备二维银纳米阵列结构的影响

罗银燕, 朱贤方
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出版历程
  • 收稿日期:  2010-08-16
  • 修回日期:  2011-02-25
  • 刊出日期:  2011-04-05

电阻热蒸发镀膜与电子束蒸发镀膜对纳米球刻蚀方法制备二维银纳米阵列结构的影响

  • 1. 厦门大学物理系,厦门 361005
    基金项目: 

    科学技术部国际科技合作计划 (批准号:2008DFA51230)、国家重点基础研究发展计划 (批准号:2007CB936603)和国家自然科学基金(批准号:60776007,11074207)资助的课题.

摘要: 在使用纳米球刻蚀法制备二维银纳米点阵的过程中,使用不同的镀膜方法在同样的模板上得到了不同形貌的银纳米阵列结构.使用电阻热蒸发镀膜方法获得了六角排列的银纳米三角形阵列结构,使用电子束蒸发镀膜方法则获得了六角排列的银纳米环阵列结构.研究表明,沉积纳米粒子的粒径、表面纳米曲率效应和热能是形成不同结构形貌的纳米阵列结构的关键因素.

English Abstract

参考文献 (35)

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