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射频磁控反应溅射制备的Ag2O薄膜的椭圆偏振光谱研究

马姣民 梁艳 郜小勇 陈超 赵孟珂 卢景霄

射频磁控反应溅射制备的Ag2O薄膜的椭圆偏振光谱研究

马姣民, 梁艳, 郜小勇, 陈超, 赵孟珂, 卢景霄
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出版历程
  • 收稿日期:  2011-06-16
  • 修回日期:  2011-07-16
  • 刊出日期:  2012-03-05

射频磁控反应溅射制备的Ag2O薄膜的椭圆偏振光谱研究

  • 1. 郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室, 郑州 450052;
  • 2. 河南工业大学信息科学与技术学院, 郑州 450052
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号: 60807001)、河南省高等学校青年骨干教师资助计划、国家重点基础研究发展计划(批准号: 2011CB201605) 和河南省教育厅自然科学资助研究计划(批准号: 2010A140017)资助的课题.

摘要: Ag2O薄膜在新型超高存储密度光盘和磁光盘方面具有潜在的应用前景.利用射频磁控反应溅射技术, 通过调节衬底温度在沉积气压为0.2 Pa、氧氩比为2:3的条件下制备了一系列Ag2O 薄膜.利用通用振子模型(包括1个Tauc-Lorentz振子和2个Lorentz 振子)拟合了薄膜的椭圆偏振光谱.在1.53.5 eV能量区间,薄膜的折射率在2.22.7之间, 消光系数在0.30.9之间. 在3.54.5 eV能量区间,薄膜呈现了明显的反常色散,揭示Ag2O薄膜的等离子体振荡频率在 3.54.5 eV之间. 随着衬底温度的升高,薄膜的光学吸收边总体上发生了红移, 该红移归结于薄膜晶格微观应变随衬底温度的升高而增大. Ag2O薄膜的光学常数表现出典型的介质材料特性.

English Abstract

参考文献 (16)

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