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Ar离子注入YBa2Cu3O7-x超导薄膜中微结构变化的透射电子显微镜研究

李贻杰 熊光成 甘子钊 任琮欣 邹世昌

Ar离子注入YBa2Cu3O7-x超导薄膜中微结构变化的透射电子显微镜研究

李贻杰, 熊光成, 甘子钊, 任琮欣, 邹世昌
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出版历程
  • 收稿日期:  1992-04-06
  • 刊出日期:  2005-07-10

Ar离子注入YBa2Cu3O7-x超导薄膜中微结构变化的透射电子显微镜研究

  • 1. (1)北京大学物理系,北京100871; (2)中国科学院上海冶金研究所离子束开放研究实验室,上海200050

摘要: Ar离子注入YBa2Cu3O7-x超导薄膜后,不仅会引起样品超导转变温度Tc和临界电流密度Jc的下降,还会使样品的正常态由金属型变为半导体型。透射电子显微镜观察发现在小剂量(12Ar/cm2)注入情况下,样品的晶格结构几乎不受影响。随着注入剂量的增加,晶格损伤越来越严重,最终变成非晶态。对实验结果的分析表明,Ar离子注入引起YBa2<

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