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高能重离子注入Si中缺陷的抑制

R.J.Schreatelkamp J.R.Liefting F.W.Saris 卢武星

高能重离子注入Si中缺陷的抑制

R.J.Schreatelkamp, J.R.Liefting, F.W.Saris, 卢武星
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出版历程
  • 收稿日期:  1994-05-09
  • 刊出日期:  1995-07-20

高能重离子注入Si中缺陷的抑制

  • 1. (1)FOM原子和分子物理研究所,1098SJAmsterdam; (2)北京师范大学低能核物理研究所射线束与材料工程开放实验室,北京100875;
    基金项目: 

    国家自然科学基金资助的课题.

摘要: 以文献[10]中作者系统研究离子注入Si中缺陷形成判据为基础,研究多种高能重离子的注入和退火行为,提出一种简便和有效抑制二次缺陷形成的新方法.

English Abstract

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