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发光多孔硅的表面氮钝化

张甫龙 陈华杰 范洪雷 俞鸣人 侯晓远 李谷波

发光多孔硅的表面氮钝化

张甫龙, 陈华杰, 范洪雷, 俞鸣人, 侯晓远, 李谷波
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出版历程
  • 收稿日期:  1995-05-02
  • 修回日期:  1995-07-18
  • 刊出日期:  1996-07-20

发光多孔硅的表面氮钝化

  • 1. (1)复旦大学应用表面物理国家重点实验室,上海200433; (2)四川工业学院物理实验室,成都611744
    基金项目: 

    国家自然科学基金

    “863”高技术计划青年基金资助的课题

摘要: 报道对多孔硅在NH3气中进行快速热处理的结果。红外吸收谱表明,经处理样品的表面由Si(NH)2和Si3N4所覆盖,电子自旋共振谱指出,经处理的样品有相当低的悬挂键密度,光荧光谱表明,经适当条件处理的样品的发光强度与未作处理样品相比仅略有降低,而且在大气中存放三个月基本不变,这些结果表明,氮化物可以在多孔硅表面形成优良的钝化膜,这对多孔硅的实际应用及理论研究都有一定意义。

English Abstract

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