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多层膜线列阵的巨磁电阻和层间耦合

陈金昌 郑 鹉 王艾玲 陈慧余 孙 勇 李志超

多层膜线列阵的巨磁电阻和层间耦合

陈金昌, 郑 鹉, 王艾玲, 陈慧余, 孙 勇, 李志超
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出版历程
  • 收稿日期:  1998-01-12
  • 修回日期:  1998-06-29
  • 刊出日期:  1998-06-05

多层膜线列阵的巨磁电阻和层间耦合

  • 1. (1)首都师范大学物理系,北京 100037; (2)中国科学技术大学物理系,合肥 230026
    基金项目: 

    北京市自然科学基金(批准号:1962003)资助的课题.

摘要: 研究了Fe/[NiFe/Cu]30多层膜线列阵的室温磁电阻和磁滞特性,列阵的线密度为250和500线/mm,采用激光全息光刻和离子束刻蚀技术制成.线列阵样品的磁性与刻线加工前的连续膜有明显区别.最大巨磁电阻率有增也有减,最大增量为3.32%.外场平行线轴的矫顽力有的增加有的不变.这除了因为原始连续膜层间耦合态有差异之外,还与由线列阵加工引入的单轴各向异性和其它变化相关.

English Abstract

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