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低压等离子体增强化学汽相沉积法制备立方氮化碳薄膜

张志宏 郭怀喜 余非为 熊启华 叶明生 范湘军

低压等离子体增强化学汽相沉积法制备立方氮化碳薄膜

张志宏, 郭怀喜, 余非为, 熊启华, 叶明生, 范湘军
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出版历程
  • 收稿日期:  1997-09-08
  • 刊出日期:  1998-06-20

低压等离子体增强化学汽相沉积法制备立方氮化碳薄膜

  • 1. 武汉大学物理系,武汉 430072
    基金项目: 

    国家自然科学基金资助的课题.

摘要: 用低压等离子体增强化学汽相沉积法和氮化硅中间过渡层的方法,在硅片和玻璃上,制备了立方氮化碳薄膜.用光电子能谱测试了其成分和结合能,薄膜含氮量为42.96%.C1s和N1s的结合能分别为285.01和398.60eV.透射电子显微镜研究表明,制备的氮化碳属于体心立方结构,根据衍射花样,计算的晶格常量a为0.536nm,这与理论预言的结果a为0.53973nm很接近.随着沉积的时间增长,还观测到了氮化碳薄膜的菊池花样.在玻璃上沉积的氮化碳薄膜在可见光和近红外区域是透明的,在400nm处有光吸收.

English Abstract

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