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衬底表面覆盖对薄膜成核和生长的影响

邵庆益 方容川 廖 源 韩祀瑾

衬底表面覆盖对薄膜成核和生长的影响

邵庆益, 方容川, 廖 源, 韩祀瑾
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出版历程
  • 收稿日期:  1998-09-16
  • 修回日期:  1998-11-16
  • 刊出日期:  1999-08-20

衬底表面覆盖对薄膜成核和生长的影响

  • 1. 中国科学技术大学物理系,合肥 230026
    基金项目: 

    国家高技术研究发展计划(批准号:863-715-002-003)资助的课题.

摘要: 在薄膜生长的成核阶段,稳定聚集体将逐渐覆盖衬底表面.同时,薄膜的生长将发生在被覆盖的衬底部分,而成核则发生在未被覆盖的部分.本文研究了衬底表面被覆盖的程度对薄膜成核和生长的影响,对广泛应用的薄膜理论,给出一些修正公式.结果表明,成核速率正比于衬底表面未被覆盖面积的平方.而薄膜理论认为成核速率是时间常量,似显得粗糙.

English Abstract

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