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微量硼掺杂非晶硅的瞬态光电导衰退及其光致变化

张世斌 孔光临 徐艳月 王永谦 刁宏伟 廖显伯

微量硼掺杂非晶硅的瞬态光电导衰退及其光致变化

张世斌, 孔光临, 徐艳月, 王永谦, 刁宏伟, 廖显伯
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出版历程
  • 收稿日期:  2001-04-11
  • 修回日期:  2001-05-28
  • 刊出日期:  2005-04-11

微量硼掺杂非晶硅的瞬态光电导衰退及其光致变化

  • 1. 中国科学院半导体研究所凝聚态物理中心,表面物理国家实验室,北京100083
    基金项目: 

    国家重点基础研究发展规划项目 (批准号 :G2 0 0 0 0 2 82 0 1)资助的课题

摘要: 利用EG&G的瞬态分析测试仪对微量硼掺杂的高氢稀释非晶硅薄膜的瞬态光电导作了测量,并研究了长时间曝光处理对瞬态光电导的影响.发现薄膜的瞬态光电导衰退可以用双指数函数来拟合,说明在样品的光电导衰退过程中有两种陷阱在起作用,估算了陷阱能级的位置.曝光处理后样品的光电导和暗电导不仅没有下降,而且还有所上升,薄膜的光敏性有所改善.很可能曝光过程引起了硼受主的退激活,导致费米能级向导带边移动,使有效的复合中心减少,样品的光电导上升.

English Abstract

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