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Monte Carlo方法研究低能电子束曝光沉积能分布规律

谭震宇 任黎明 陈宝钦

Monte Carlo方法研究低能电子束曝光沉积能分布规律

谭震宇, 任黎明, 陈宝钦
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出版历程
  • 收稿日期:  2001-08-24
  • 修回日期:  2001-09-19
  • 刊出日期:  2005-04-03

Monte Carlo方法研究低能电子束曝光沉积能分布规律

  • 1. (1)山东大学电气工程学院,济南250061; (2)中国科学院微电子中心,北京100029
    基金项目: 

    国家“九五”科技攻关项目 (批准号 :97 76 2 0 3 0 2 )

    国家重点基础研究项目 (批准号 :G2 0 0 0 0 36 5 0 4)资助的课题~

摘要: 建立一个描述低能电子在多元多层介质中散射的物理模型,运用MonteCarlo方法模拟低能电子在靶体胶衬底中的复杂散射过程,在此基础上通过大量计算研究入射束能、胶层厚度、衬底材料等不同曝光条件对抗蚀剂沉积能密度分布的影响,获得沉积能分布规律:适量的低束能、薄胶层、低原子序数衬底可以使前散射电子对胶中沉积能密度分布的贡献增大、背散射电子的贡献减小,从而提高曝光分辨率.

English Abstract

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