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nc-Si/SiO2多层膜的制备及蓝光发射

隋妍萍 马忠元 陈坤基 李 伟 徐 骏 黄信凡

nc-Si/SiO2多层膜的制备及蓝光发射

隋妍萍, 马忠元, 陈坤基, 李 伟, 徐 骏, 黄信凡
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出版历程
  • 收稿日期:  2002-07-15
  • 修回日期:  2002-09-09
  • 刊出日期:  2003-02-05

nc-Si/SiO2多层膜的制备及蓝光发射

  • 1. 南京大学物理系,固体微结构物理国家重点实验室,南京 210093
    基金项目: 

    国家自然科学基金、国家重点基础研究发展规划(批准号:10174035,90101020和2001CB610503)和江苏省自然科学基金(批准号:BK2001028和BG2001002)资助的课题.

摘要: 在等离子体增强化学气相淀积(PECVD)系统中,采用a-Si∶H层淀积与原位等离子体氧化相结合的逐层生长的方法成功制备出a-Si∶H/SiO2多层膜 (ML);利用限制性结晶原理通过两步退火处理使a-Si∶H层晶化获得尺寸可控的nc-Si/SiO2 ML,并观察到室温下的蓝光发射;结合Raman散射和剖面透射电子显微镜技术分析了nc-Si/SiO2 ML的结构特性;通过对晶化样品光致发光谱和紫外-可见光吸收谱的研究,探讨了蓝光发射的起源.

English Abstract

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