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基片下磁场磁控对溅射辉光及薄膜梯度的影响

赵新民 狄国庆

基片下磁场磁控对溅射辉光及薄膜梯度的影响

赵新民, 狄国庆
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出版历程
  • 收稿日期:  2003-01-17
  • 修回日期:  2003-04-01
  • 刊出日期:  2004-01-15

基片下磁场磁控对溅射辉光及薄膜梯度的影响

  • 1. 苏州大学物理系, 苏州 215006
    基金项目: 

    国家自然科学基金(批准号:19972010)资助的课题.

摘要: 溅射时在基片下方放置磁铁,让来自基片下方的磁场发挥磁控作用,以此来研究基片下磁场磁控溅射的方法.发现辉光形貌以及沉积的薄膜厚度分布均发生明显变化的同时,辉光的外形也随着外加磁铁直径的变化而变化.运用磁荷理论对空间磁场分布进行模拟,解释了辉光形貌变化的机理;运用沉积粒子在外加梯度磁场中运动理论解释了膜厚分布.

English Abstract

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