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氧化铬外延薄膜的x射线研究

S. Hak O. C. Rogojanu T. Hibma 杜晓松

氧化铬外延薄膜的x射线研究

S. Hak, O. C. Rogojanu, T. Hibma, 杜晓松
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出版历程
  • 收稿日期:  2003-10-20
  • 修回日期:  2003-12-24
  • 刊出日期:  2004-05-05

氧化铬外延薄膜的x射线研究

  • 1. (1)Material Science Centre,University of Groningen,Groningen 9747 A G,the Netherlands; (2)电子科技大学微电子与固体电子学院,成都 610054
    基金项目: 

    国家出国留学基金(批准号:21851030)和荷兰高等教育国际合作组织(Nuffic)资助的课题. 

摘要: 采用分子束外延技术(MBE)在MgO(001)基板上沉积了氧化铬薄膜,并利用x射线衍射 (XRD)和x射线反射谱(XRR)对薄膜的晶体结构进行了表征.θ—2θ扫描和倒易空间图(R SM)揭示出薄膜为单相c轴外延生长,晶体结构为体心正交,晶胞常数a,b,c分别为0.8940±0.0003,0.298±0.0002和0.3897±0.0002nm.扫描表明薄膜在面内具有90°孪晶,取向关系为a∥MgO〈110〉,c∥MgO(001).XRR谱测得薄膜的电子 密度为1350±20nm-3,与由晶胞体积 计算得

English Abstract

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