搜索

x

留言板

尊敬的读者、作者、审稿人, 关于本刊的投稿、审稿、编辑和出版的任何问题, 您可以本页添加留言。我们将尽快给您答复。谢谢您的支持!

姓名
邮箱
手机号码
标题
留言内容
验证码

等离子体增强化学气相沉积法实现硅纳米线掺硼

曾湘波 廖显伯 王 博 刁宏伟 戴松涛 向贤碧 常秀兰 徐艳月 胡志华 郝会颖 孔光临

引用本文:
Citation:

等离子体增强化学气相沉积法实现硅纳米线掺硼

曾湘波, 廖显伯, 王 博, 刁宏伟, 戴松涛, 向贤碧, 常秀兰, 徐艳月, 胡志华, 郝会颖, 孔光临

Boron-doped silicon nanowires grown by plasmaenhanced chemical vapor deposition

Zeng Xiang-Bo, Liao Xian-Bo, Wang Bo, Diao Hong-Wei, Dai Song-Tao, Xiang Xian-Bi, Chang Xiu-Lan, Xu Yan-Yue, Hu Zhi-Hua, Hao Hui-Ying, Kong Guang-Lin
PDF
导出引用
计量
  • 文章访问数:  7634
  • PDF下载量:  885
  • 被引次数: 0
出版历程
  • 收稿日期:  2003-11-03
  • 修回日期:  2004-04-19
  • 刊出日期:  2004-06-05

/

返回文章
返回